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多温区管式炉
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多温区管式炉每个温区可以单独控温,主要适用于真空或保护气氛中,多种温度段下材料的预烧、烧结、镀膜、高温热解、低温沉积(CVD)工艺,碳纳米管及碳纳米线的制备等。
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双温区管式炉
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OTL1200-1200-1200三温区管式炉
OTL1200-1200-1200三温区管式炉有三个加热区,每个加热区能进行30段程序控温,移相触发、可控硅...
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KTL1700-1700双温区管式炉
KTL1700-1700双温区管式炉以1800型硅钼棒加热元件,有两个加热区,采用双层壳体结构,每个加热区...
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KTL1700-1400双温区管式炉
KTL1700-1400双温区管式炉以硅钼棒和硅碳棒为加热元件,有两个加热区,采用双层壳体结构和宇电控...
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KTL1600-1400双温区管式炉
KTL1600-1400双温区管式炉以硅钼棒和硅碳棒为加热元件,有两个加热区,采用双层壳体结构和宇电控...
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OTL1200-1200双温区管式炉
OTL1200-1200 双温区管式炉以硅钼棒和硅碳棒为加热元件,有两个加热区,采用双层壳体结构和宇电...
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OTL1200-1200双翻盖双温区管式炉
OTL1200-1200双翻盖双温区管式炉采用双层壳体结构和宇电控温仪表,每个加热区能进行30段程序控温...
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