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箱式气氛炉详细介绍
2017-05-15 13:35:47

箱式气氛炉详细介绍

箱式气氛炉,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。
 
箱式气氛炉的特点:
 
1.LED大屏幕液晶显示,本机集成了真空泵,内循环水冷却系统,避免外接水源的繁锁,使设备的外表面温度更低,美观大方,操作简洁。
 
2.本款产品加热系统,混气系统,真空系统,内循环水冷却系统,监测系统,都可通过控制按钮一键操作。本机功能全面,满足客户绝大部分要求。
 
3.专业的真空设计,独特的密封技术,保证了炉腔的气密性,真空度远远超过同类产品。
 
4.国内最好的加热元件,使用寿命长,高效节能。
 
5.升温速度快,升温速率可调: Max:30℃/Min
 
6.热污染少,采用国内新型高纯氧化铝微晶体纤维保温材料,双层壳体间风扇制冷,可使炉体表面快速降温,外壳表面不烫手(约60℃)。
 
7.控温精密,具备多种温控器可供选择,进入保持状态后,温度波动小(控温精度±1℃温度均匀±5℃)。

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